科研型桌面式纳米压印机

迈可诺科研型纳米压印机RD-NIL100，是一款桌面型纳米压印系统。 主要应用于微米或纳米结构的压印成型。

一、纳米压印机应用

1.1 DOE（人脸识别衍射元器件）

可用于制造高精度的衍射光学元件（DOE），这些元件在人脸识别技术中起到关键作用。通过纳米压印技术，能够在基材上形成微米或纳米级的复杂光学结构，用于光束整形和衍射，从而提升人脸识别设备的成像质量和识别精度。

1.2 Diffuser（扩散元器件）

该设备适用于生产光学扩散器，通过压印形成均匀的微纳结构，实现光的散射和扩散。这种扩散元器件广泛应用于照明系统、显示技术以及激光散射领域，能够有效改善光分布均匀性。

1.3 AR波导片

在增强现实（AR）领域，可用于制造波导片，通过纳米压印技术在基材上形成特定的微纳结构，用于光的传输和耦合。这种高精度波导片是AR眼镜和头显设备的核心组件，能够提升虚拟影像的清晰度和视场角。

1.4 微透镜阵列

能够压印出微透镜阵列，即由多个微米级透镜组成的结构。 这种阵列广泛应用于光学传感器、成像系统和光通信领域，可实现光线的聚焦、分束或准直，提升设备的光学性能。

1.5 微流控芯片

在生物医学和化学分析领域，该纳米压印机可用于制造微流控芯片。 通过压印形成微米或纳米级的通道和结构，用于精确控制微量液体的流动、混合和反应，适用于疾病诊断、药物筛选和单细胞分析等应用。

6. 微针

还能生产微针阵列，即表面带有微米或纳米级针状结构的器件。 这种微针可用于无痛药物传递、疫苗接种或生物传感，通过压印技术实现高密度、高精度的针尖制造，提升穿刺效率和生物相容性。

二、纳米压印机特点

● 桌面型，4/6/8英寸可选

● 热压印＜230℃，误差±2℃

● 真空环境作业，＜1mbar

● 可压印分辨率＜50nm图案

三、纳米压印机技术参数

可实现图案转移分辨率：分辨率<50nm，可同时实现UV紫外固化和热压印两种模式；

压印精度控制及均匀性：在紫外固化模式下，可实现5:1深宽比，优异的压印高度均匀性；

热压印：230℃；100°C/min升温速度；可以根据压印材料，通过软件实现不同温度控制；

UV光源：配置i-line 365nm光源，光源能量值可达400mW/cm2；

压力控制：真空腔≤100Pa；气压腔0.0-0.3bar，采用进口干泵机；

压印平台：平整度TTV<5μm，确保长期的高精度、高稳定性；

检测模块：配置气压及温度检测模块,与软件配套，可实现特定环境的控制；

通讯接口：USB2.0标准计算机与仪器通讯接口；

压印室尺寸：直径~105mm，高度~12mm（4寸）；

支持自定义 ：可根据客户压印材料不同，控制不同气温，UV紫外照射时间及量；

应用软件

操作控制：提供简单易操作的控制流程，同时支持管理员模式更改个别需求参数；

实时监控：监控压印腔体内的温度、压力数据，实时反映在监控软件上。