首先检查平板硫化机是否完好，运行是否正常，然后安装好模具。打开电源，设定硫化时间、压力、排气等参数，设置温度并打开温控预热，达到设定温度后，（多延长一段时间，确保模具温度达到温度），打开模具，投入定量胶料，按启动即可。WABASH平板硫化机注意事项1.硫化机在使用前需要检查液压油量，液压油高度为下机座的2/3的高度，油量不足时应及时添加，油液注入前必须精细过滤。2.油液需要定期排除并进行沉淀过滤后再使用，同时清洗滤油器。3.操作压力不可超过额定的压力。4.模具尺寸不可小于柱塞...

在晶圆划片机划切过程中，晶圆在划切时需要固定在吸盘上。在吸盘的表面加工有吸附槽，通过使吸附槽内产生低压真空以将晶圆吸附在吸盘表面。由于划切过程中主轴在高速的旋转，刀片在划切晶圆时产生很大的切削力，所以晶圆的吸附需要非常的稳定和可靠。而现有的吸盘，存在吸附稳定性差的问题。吸盘的吸附力的大小将直接影响到真空吸附的稳定性，而吸附力的大小与吸盘表面设置的吸附槽的大小及形状、布局等有关。并且，如果吸附槽中落入杂质，不能及时进行清理的话，将会影响真空吸附力，从而影响吸附稳定性。而现有的吸...

等离子去胶机进行去胶操作十分的简单，并且效率高，去胶后的表面干净光洁、没有任何的划痕、成本低、环保。电介质等离子体去胶机在进行刻蚀时，一般会被应用在电容耦合等离子体平行板反应器上，在平行板反应器中，反应离子刻蚀腔体所采用的是阴极面积小，阳极面积大的不对称设计，而需要被刻蚀的物件则是被放置到面积较小的电极之上。在进行刻蚀操作时，其射频电源所产生的热运动会使质量小、运动速度快的带负电自由电子很快到达阴极，而正离子则是由于质量大、速度慢而很难在同一时刻达到阴极，从而就会在阴极附近形...

等离子清洗机的效果与特点（1）清洗后的材料表面基本没有残留物，并且可以通过选择、搭配不同的等离子体清洗类型，产生不同的清洗效果，满足后续处理工艺对材料表面特性的多种需求；（2）由于等离子体的方向性不强，因此方便清洗带有凹陷、空洞、褶皱等复杂结构的物件，适用性较强；（3）可处理多种基材，对待清洗物件的要求较低，因此特别适合清洗不耐热和溶剂的基体材料；（4）清洗过后无需干燥或其他工序，无废液产生，同时其工作气体排放无毒害，安全环保；（5）操作简便、易控、快捷，对真空度要求不高或可...

MicroChem光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。MicroChem光刻胶应用范围：广泛应用于集成电路，封装，微机电系统，光电子器件光子器件，平板显示器，太阳能光伏等领域。主要技术参数1．灵敏度灵敏度是衡量曝光速度的指标。灵敏度越高，所需的曝光剂量越小。单位：毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2．分辨率（resolution）区别硅片表面相邻图形特征的能力。一般用关键尺寸来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，...

光学膜厚仪的优点1.非接触式测量采用的原理是通过光的反射原理对膜层厚度进行测量，属于非接触式测量方法，不会对样品造成任何损伤，能够保证样品的完整性。2.测量数据多样可以测得物体的膜厚度和n，k数据，这是其它类型的膜厚仪所不具备的特点。3.测量快速测量过程非常快速，因为该设备采用了*结构设计，能够极大程度的提升测量效率，相比于其他类型膜厚测量设备来说显得非常轻巧方便。4.适用范围广适用范围非常广泛，从普通家用到工厂的工业生产，再到大学实验室和科学研究所，都可以看到它的身影，由此...

快速退火炉需要定期的维护保证其能够正常的操作快速退火炉主要应用于院校实验室、工矿企业实验室，如：薄膜沉积，可在真空、不同气氛、空气不同环境下，对样品进行快速热处理，不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。快速退火炉维修注意事项：1.快速退火炉*使用或长时间不用后，要在120℃左右烘烤1小时，在300℃左右烘烤2小时后使用，以免造成炉膛开裂。炉温尽量不要超过额定温度，以免损坏加热元件及炉衬。禁止向炉膛内直接灌注各种液体及溶解金属，保持炉内的清洁。2.炉膛若采用石英管，当温...