美国ARRADIANCE公司的GEMStar XT系列台式 ALD系统,在小巧的机身(78 x56 x28 cm)中集成了原子层沉积所需的所有功能,可多容纳9片8英寸基片同时沉积。GEMStar XT全系配备热壁,结合前驱体瓶加热,管路加热,横向喷头等设计,使温度均匀性高达99.9%,气流对温度影响减少到0.03% 以下。高温度稳定度的设计不仅实现在8英寸基体上实现膜厚的不均匀性优于99%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现对高达1500: 1长径比微纳深孔内部的均匀沉积。
GEMStar XT 产品特点: * 300℃ 铝合金热壁,对流式温度控制 * 175℃温控150ml前驱体瓶,200℃温控输运支管 * 可容纳多片4,6,8英寸样品同时沉积 * 可容纳1.25英寸/32mm厚度的基体 * 标准CF-40接口 * 可安装原位测量或粉末沉积模块等选件 * 等离子体辅助ALD插件 * 多种配件可供选择 | GEMStar XT 产品型号: GEMStar XT: * 大8英寸/200 mm基片沉积(4'和6' 可选) * 单/双路前驱体输运支管, 4/8路前驱体瓶接口 * 不可升级为等离子体增强ALD GEMStar XT-R: * 大8英寸(200mm)基片沉积(4'和6' 可选) * 单/双路前驱体输运支管, 4/8路前驱体瓶和CF-40接口 * 可升级为等离子体增强ALD |
 | GEMStar XT-P: * 大8英寸/200mm基片沉积(4'和6 '可选) * 单/双路前驱体输运支管, 4/8路前驱体瓶和CF-40接口 * 装备高性能ICP等离子发生器 13.56 MHz 的等离子源非常紧凑,只需风冷, 高运行功率达300W。 * 标配3组气流质量控制计(MFC)控制的等离子气源线,和一条MFC控制的运载气体线,使难以沉积的氧化物、氮化物、金属也可以实现均匀沉积。 |
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新产品发布:  | GEMStar NanoCUBE: * 大100 mm 立方体样品 沉积 * 单路前驱体输运支管, 2路前驱体瓶接口 * 主要用于3D多孔材料,以及厚样品的沉积 |
丰富配件: |
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多样品托盘: * 多样品夹具,样品尺寸(8", 6", 4")向下兼容。 * 多基片夹具,多同时容纳9片基片。
| 温控热托盘: * 可加热样品托盘, 高温度500℃,可实现热盘-热壁复合加热方式。

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粉末沉积盘:
| 臭氧发生器:

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真空进样器(Load Lock)  | 晶振测厚仪 |
前驱体瓶: | 前驱体加热套 |
粉末旋转沉积罐模块: 配合热壁加热方式,进一步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆。 
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手套箱接口: 可从侧面或背面wan美接入手套箱,与从底部接入手套箱不同,不占用手套箱空间。由于主机在手套箱侧面,反应过程中不对手套箱有加热效应,不影响手套箱内温度。 |
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应用案例
应用领域