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原子层沉积系统

简要描述:原子层沉积系统(ALD)是一种基于自限制表面化学反应的优良薄膜沉积技术。通过交替通入不同前驱体气体,在基底表面逐层形成单原子层厚度的薄膜,具有原子级精度控制和三维共形性覆盖的特点,尤其适用于复杂结构和高深宽比器件的均匀镀膜。

  • 产品型号:AT-410
  • 厂商性质:代理商
  • 更新时间:2025-03-11
  • 访  问  量:2356

详细介绍

       原子层沉积系统(Atomic Layer Deposition,简称ALD)是一种优良的薄膜沉积技术,通过在基底表面逐层沉积原子级厚度的材料来制备高质量、高均匀性的薄膜。它以其精准的厚度控制、优异的保形性(对复杂三维结构的覆盖能力)和低温沉积特性而著称。


一、原子层沉积系统技术参数:

1.腔体材质:全铝铝质腔体;

2.样品台尺寸:处理最大直径4英寸样品;

3.基片加热温度:室温~315℃±1℃;

4.液体源:一路高蒸气压液体氧化剂(H2O或H2O2),3路固体或液体金属源;

5.可变过程压力控制0.1至1.5Torr;

6.ALD阀:Swagelok快速高温ALD专用阀;

7.载气系统:N2,压力30Psi;

8.生长模式:连续和停留沉积模式任意选择;

9.控制系统:16位7英寸彩色触摸屏PLC操作控制;

10.4个世伟洛克热敏ALD阀门;

11.5个高温剂量容积填充阀;

12.带辅助弯头加热器的保形加热套,操作温度室温至150℃;

13.带阀门的50ccSS前体瓶,波纹管密封高温兼容阀;

14.Fujikin金属密封,200sccmMFC流量质量控制器,用于N2或Ar吹扫流量控制;

15.基于双温探头的腔室加热器控制系统和探头故障保险;

16.OEM 2级旋转叶片泵,抽速18 cfm,极限真空3mtorr,包括Flomblin用于PFPE油;

二、原子层沉积系统技术特点

精准控制:薄膜厚度可精确至亚纳米级(0.1 Å/cycle),重复性误差<1%。

高均匀性:在复杂3D结构(如纳米线、多孔材料)表面实现均匀覆盖。

低温工艺:部分机型支持室温至300℃以上,范围沉积,兼容热敏感基材(如聚合物、生物材料)。

前驱体兼容性:支持金属有机化合物、卤化物、等离子体增强(PEALD)等多种反应模式。

原位监测:集成石英晶体微天平(QCM)、椭偏仪或光学反射仪,实时监控薄膜生长。

三、原子层沉积系统应用领域

半导体制造:高介电材料(HfO₂、Al₂O₃)、晶体管栅极、DRAM电容薄膜。

新能源:锂离子电池电极包覆层、燃料电池催化剂涂层。

光电子器件:OLED封装层、光伏器件钝化层。

纳米技术:量子点涂层、MEMS器件防水/防腐蚀膜。

生物医疗:生物传感器表面功能化、植入器械抗菌涂层。

3.1半导体工业

        原子层沉积系统在半导体制造中应用广泛,尤其是在集成电路(IC)和微电子器件的生产中。随着器件尺寸不断缩小至纳米级,ALD能够沉积超薄且均匀的高介电常数(high-k)材料(如HfO₂、Al₂O₃)作为栅极绝缘层,替代传统的SiO₂。此外,它还用于沉积金属(如钨、铜)作为导电层或阻挡层,确保器件性能的稳定性和可靠性。

3.2光电子与显示技术

       原子层沉积系统在光电子领域,ALD被用于制备光学薄膜(如抗反射涂层)和透明导电氧化物(如ZnO、ITO),广泛应用于太阳能电池、LED和OLED显示屏。例如,ALD可以沉积钝化层(如Al₂O₃)以提高太阳能电池的效率,或制备保护层延长器件寿命。

3.3能源存储与转换

       原子层沉积系统在电池和燃料电池领域也有重要应用。例如,在锂离子电池中,ALD可用于沉积电极表面的保护层,防止电解质腐蚀并提高循环稳定性。在催化剂制备中,ALD能够精确调控催化剂颗粒的大小和分布,提升能源转换效率。

3.4生物医学

       原子层沉积系统技术可用于制备生物相容性涂层,应用于医疗器械(如植入物、支架)的表面改性。例如,通过沉积TiO₂或ZrO₂薄膜,可以增强器械的耐腐蚀性和生物相容性,同时减少感染风险。

3.5纳米技术

       原子层沉积系统是制备纳米结构(如纳米管、纳米线)和二维材料(如石墨烯、过渡金属二硫化物)的关键技术。它能够实现原子级精度的表面改性,广泛应用于传感器、纳米电子器件和量子计算研究。

3.6其他工业应用

防护涂层:ALD可沉积耐腐蚀、耐磨损的薄膜,用于航空航天、汽车零件等领域。

MEMS/NEMS:在微纳机电系统(MEMS/NEMS)中,ALD用于制备功能层或牺牲层。

四、目前可以沉积的材料包括:

1)氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2

2)氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN

3)氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2

4)金属: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni

5)碳化物: TiC, NbC, TaC  

6)复合结构材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx

7)硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS





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